GB/T 43894.1-2024《半导体晶片近边缘几何形态评价第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》

Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 1:Measured height data array using a curvature metric（ZDD）

国家标准《半导体晶片近边缘几何形态评价第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位山东有研半导体材料有限公司、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司、金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司、中环领先半导体材料有限公司、广东天域半导体股份有限公司、鸿星科技（集团）股份有限公司。

主要起草人王玥、朱晓彤、孙燕、宁永铎、徐新华、徐国科、李春阳、张海英、陈海婷、丁雄杰、郭正江。

基础信息

标准号：GB/T 43894.1-2024发布日期：2024-04-25实施日期：2024-11-01标准类别：方法中国标准分类号：H21国际标准分类号：77.040 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

山东有研半导体材料有限公司金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司广东天域半导体股份有限公司浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司中环领先半导体材料有限公司鸿星科技（集团）股份有限公司

起草人

王玥朱晓彤徐新华徐国科陈海婷丁雄杰孙燕宁永铎李春阳张海英郭正江

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