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Direct writing imaging exposure equipment
国家标准《直写成像式曝光设备》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准委。
主要起草单位合肥芯碁微电子装备股份有限公司、广州兴森快捷电路科技有限公司、安徽省工业和信息化研究院、深南电路股份有限公司、四创电子股份有限公司、中国电子技术标准化研究院、合肥矽迈微电子科技有限公司、深圳市克洛诺斯科技有限公司、深圳拜波赫技术有限公司。
主要起草人何少锋 、陈新 、邱醒亚 、乔书晓 、沈桂珍 、朱颖 、陈黎阳 、方林 、曲鲁杰 、许静平 、陈东 、崔良端 、陆培良 、吴怡然 、曹可慰 、赵俊莎 、李香滨 、严孝年 、鲁男 、李娜 、李照辉 、吴新民 。
标准号:GB/T 43725-2024发布日期:2024-03-15实施日期:2024-10-01标准类别:产品中国标准分类号:L97国际标准分类号:31.260 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门:国家标准委
合肥芯碁微电子装备股份有限公司安徽省工业和信息化研究院四创电子股份有限公司合肥矽迈微电子科技有限公司深圳拜波赫技术有限公司广州兴森快捷电路科技有限公司深南电路股份有限公司中国电子技术标准化研究院深圳市克洛诺斯科技有限公司
何少锋陈新沈桂珍朱颖曲鲁杰许静平陆培良吴怡然李香滨严孝年李照辉吴新民邱醒亚乔书晓陈黎阳方林陈东崔良端曹可慰赵俊莎鲁男李娜
YY/T 0796.1-2010 医用电气设备 数字X射线成像系统的曝光指数 第1部分:普通X射线摄影的定义和要求YY/T 1766.4-2024 X射线计算机体层摄影设备图像质量评价方法 第4部分:自动曝光控制下的成像性能评价YY/T 1542-2017 数字化医用X射线设备自动曝光控制评价方法20231852-T-464 放射性核素成像设备 性能和试验规则 第1部分:正电子发射断层成像装置YY/T 1719-2023 正电子发射断层成像及磁共振成像设备通用技术要求20232049-T-604 喷墨印刷设备 基于成像的液滴体积测量20231803-T-464 放射性核素成像设备 性能和试验规则 第2部分:平面、全身、断层成像伽玛照相机20233031-T-464 医用成像部门的评价及例行试验第3-2部分:乳腺摄影X射线设备成像性能验收试验GB/T 20224-2006 数码照相机曝光指数、ISO感光度值、标准输出灵敏度和推荐曝光指数的确定HG/T 2761-1996 已曝光胶卷识别
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微析院所经过严格的审核程序,获得了CMA资质认证成为正规的检测机构,不出具CMA检测报告的机构请斟酌。
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严格按照法律法规和行业标准行事,不受任何外部干扰,真实反映实际情况,出具的检测报告具有权威性和公信力。
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服务领域广泛
服务领域广泛,涉及众多行业。食品、环境、医药、化工,还是建筑、电子、机械等领域,都能提供专业检测服务。
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