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High purity gallium
国家标准《高纯镓》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准委。
主要起草单位有研国晶辉新材料有限公司、朝阳金美镓业有限公司、广东先导微电子科技有限公司、成都中建材光电材料有限公司、东方电气(乐山)峨半高纯材料有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、武汉拓材科技有限公司、楚雄川至电子材料有限公司、株洲科能新材料股份有限公司、云南锡业新材料有限公司。
主要起草人路淑娟 、曹波 、于洪国 、邢志国 、莫杰 、李素青 、尚鹏 、汪洋 、吴广杰 、林世源 、李佳宣 、张磊 、钟连兵 、朱君 、卢鹏荐 、曾小龙 、曹昌威 、金智宏 、赵科湘 、伍美珍 、刘晓华 。
标准号:GB/T 10118-2023发布日期:2023-12-28实施日期:2024-07-01全部代替标准:GB/T 10118-2009标准类别:产品中国标准分类号:H66国际标准分类号:77.150.99 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委
有研国晶辉新材料有限公司广东先导微电子科技有限公司东方电气(乐山)峨半高纯材料有限公司武汉拓材科技有限公司株洲科能新材料股份有限公司朝阳金美镓业有限公司成都中建材光电材料有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司楚雄川至电子材料有限公司云南锡业新材料有限公司
路淑娟曹波莫杰李素青吴广杰林世源钟连兵朱君曹昌威金智宏刘晓华于洪国邢志国尚鹏汪洋李佳宣张磊卢鹏荐曾小龙赵科湘伍美珍
YS/T 38.1-1992 高纯镓化学分析方法钼蓝分光光度法测定硅量YS/T 38.2-1992 高纯镓化学分析方法化学光谱法测定锰、镁、铬和锌量YS/T 474-2005 高纯镓化学分析方法 痕量元素的测定 电感耦合等离子体质谱法YS/T 38.3-1992 高纯镓化学分析方法化学光谱法测定铅、镍、锡和铜量YS/T 474-2021 高纯镓化学分析方法痕量元素的测定电感耦合等离子体质谱法YS/T 38.1-2009 高纯镓化学分析方法 第1部分:硅量的测定 钼蓝分光光度法YS/T 38.3-2023 高纯镓化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法YS/T 38.2-2009 高纯镓化学分析方法 第2部分:镁、钛、铬、锰、镍、钴、铜、锌、镉、锡、铅、铋量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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微析院所经过严格的审核程序,获得了CMA资质认证成为正规的检测机构,不出具CMA检测报告的机构请斟酌。
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提供精准的数据支持,建立了完善的数据管理系统,对每个检测项目数据进行详细记录与归档,以便随时查阅追溯。
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严格按照法律法规和行业标准行事,不受任何外部干扰,真实反映实际情况,出具的检测报告具有权威性和公信力。
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服务领域广泛
服务领域广泛,涉及众多行业。食品、环境、医药、化工,还是建筑、电子、机械等领域,都能提供专业检测服务。
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