GB/T 30652-2023《硅外延用三氯氢硅》

Trichlorosilane for silicon epitaxial

国家标准《硅外延用三氯氢硅》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位洛阳中硅高科技有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、上海亿钶气体有限公司、南京国盛电子有限公司、唐山三孚电子材料有限公司、上海新昇半导体科技有限公司、上海晶盟硅材料有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、武汉新硅科技潜江有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、中电晶华（天津）半导体材料有限公司、昊华气体有限公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司、青海中航硅材料有限公司、沁阳国顺硅源光电气体有限公司、江西晨光新材料股份有限公司。

主要起草人万烨、赵雄、严大洲、刘见华、张园园、李素青、李建新、李飞明、冯永平、孙任靖、张斌、顾广安、于生海、邓远红、徐岩、李楷东、刘文明、李明达、付梦月、邱艳梅、边红利、史隽涛、梁秋鸿。

基础信息

标准号：GB/T 30652-2023发布日期：2023-08-06实施日期：2024-03-01全部代替标准：GB/T 30652-2014标准类别：产品中国标准分类号：H83国际标准分类号：29.045 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

洛阳中硅高科技有限公司上海亿钶气体有限公司唐山三孚电子材料有限公司上海晶盟硅材料有限公司陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司宜昌南玻硅材料有限公司昊华气体有限公司青海中航硅材料有限公司江西晨光新材料股份有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司南京国盛电子有限公司上海新昇半导体科技有限公司新疆大全新能源股份有限公司武汉新硅科技潜江有限公司中电晶华（天津）半导体材料有限公司新疆新特新能材料检测中心有限公司沁阳国顺硅源光电气体有限公司

起草人

万烨赵雄张园园李素青冯永平孙任靖于生海邓远红刘文明李明达边红利史隽涛严大洲刘见华李建新李飞明张斌顾广安徐岩李楷东付梦月邱艳梅梁秋鸿

相近标准(计划)

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