GB/T 41153-2021《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法》

Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry

国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司。

主要起草人马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何烜坤、李素青、张红岩。

基础信息

标准号：GB/T 41153-2021发布日期：2021-12-31实施日期：2022-07-01标准类别：方法中国标准分类号：H17国际标准分类号：77.040 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所山东天岳先进科技股份有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司

起草人

马农农何友琴何烜坤李素青陈潇刘立娜张红岩

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