GB/T 37049-2018《电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法》

Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method

国家标准《电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。

主要起草单位江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司。

主要起草人鲁文锋、刘晓霞、秦榕、孙燕、赵而敬、王桃霞、赵玉、王忠慧、柳德发、张园园、银波、邱艳梅、刘强。

基础信息

标准号：GB/T 37049-2018发布日期：2018-12-28实施日期：2019-04-01标准类别：方法中国标准分类号：H17国际标准分类号：77.040.30 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门：国家标准委

起草单位

江苏中能硅业科技发展有限公司有研半导体材料有限公司新特能源股份有限公司青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司宜昌南玻硅材料有限公司洛阳中硅高科技有限公司

起草人

鲁文锋刘晓霞赵而敬王桃霞柳德发张园园刘强秦榕孙燕赵玉王忠慧银波邱艳梅

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