GB/T 24582-2023《多晶硅表面金属杂质含量测定酸浸取-电感耦合等离子体质谱法》

Test method for measuring surface metal impurity content of polycrystalline silicon—Acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry method

国家标准《多晶硅表面金属杂质含量测定酸浸取-电感耦合等离子体质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位亚洲硅业（青海）股份有限公司、内蒙古通威高纯晶硅有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、青海芯测科技有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、洛阳中硅高科技有限公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、江苏鑫华半导体科技股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司。

主要起草人尹东林、郑连基、刘军、魏东亮、蔡延国、李素青、侯海波、田洪先、刘文明、薛心禄、王彬、于生海、徐岩、曹岩德、姜士兵、邱艳梅、赵培芝、万首正、赵娟龙、申梅桂、刘海月、王春明。

基础信息

标准号：GB/T 24582-2023发布日期：2023-08-06实施日期：2024-03-01全部代替标准：GB/T 24582-2009标准类别：方法中国标准分类号：H17国际标准分类号：77.040 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

亚洲硅业（青海）股份有限公司宜昌南玻硅材料有限公司江苏中能硅业科技发展有限公司陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司新疆新特新能材料检测中心有限公司江苏鑫华半导体科技股份有限公司内蒙古通威高纯晶硅有限公司青海芯测科技有限公司新疆大全新能源股份有限公司洛阳中硅高科技有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司新疆协鑫新能源材料科技有限公司

起草人

尹东林郑连基蔡延国李素青刘文明薛心禄徐岩曹岩德赵培芝万首正刘海月王春明刘军魏东亮侯海波田洪先王彬于生海姜士兵邱艳梅赵娟龙申梅桂

相近标准(计划)

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