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Test method for measuring flat length on slices of electronic materials
国家标准《电子材料晶片参考面长度测量方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。
主要起草单位北京有色金属研究总院。
标准号：GB/T 13387-1992发布日期：1992-02-19实施日期：1992-10-01废止日期：2010-06-01标准类别：方法中国标准分类号：H21归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门：国家标准委
本标准等同采用ITU国际标准：ASTM F671:1983。采标中文名称:。
北京有色金属研究总院
GB/T 13387-2009 硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法GB/T 34893-2017 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法20194111-T-339 声表面波器件用单晶晶片 规范与测量方法20250515-T-469 微米级长度的扫描电镜测量方法通则SJ/T 11487-2015 半绝缘半导体晶片电阻率的无接触测量方法20250721-T-609 金刚石多晶片20250748-T-609 金刚石单晶片20243399-T-609 复合材料液体成型用纤维增强材料面内渗透特性的试验表征法20233254-T-469 电压陶瓷材料性能试验方法 长条横向长度伸缩振动模式EJ/T 903.5-1994 闪烁体性能测量方法 闪烁有效衰减长度
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微析院所经过严格的审核程序，获得了CMA资质认证成为正规的检测机构，不出具CMA检测报告的机构请斟酌。
数据
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提供精准的数据支持，建立了完善的数据管理系统，对每个检测项目数据进行详细记录与归档，以便随时查阅追溯。
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独立公正立场
严格按照法律法规和行业标准行事，不受任何外部干扰，真实反映实际情况，出具的检测报告具有权威性和公信力。
服务
服务领域广泛
服务领域广泛，涉及众多行业。食品、环境、医药、化工，还是建筑、电子、机械等领域，都能提供专业检测服务。
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